미국 정부는 20일(현지시간) 반도체법에 따른 투자 보조금 47억4500만달러(약 6조8800억원)를 삼성전자에 지급하기로 확정했다고 발표했다. 이는 지난 4월 삼성전자와 체결했던 예비거래 각서 보조금 지급액(64억달러·9조2700억원)에 비해 약 26% 감액된 것이다.

미국 상무부는 예비거래각서 체결과 부처 차원의 실사 완료에 이어 반도체법에 의거해 이 같은 보조금을 삼성전자에 직접 지급한다고 발표했다.

이는 삼성이 향후 수년간 370억 달러(약 53조원) 이상을 투자해 텍사스주 중부에 위치한 현재의 반도체 생산 시설을 미국내 첨단 반도체 개발 및 생산의 종합적 생태계로 만드는 것을 지원하는 데 쓰인다고 상무부는 설명했다.

총 지급액은 줄었지만, 전체 투자금액 대비 보조금 비중은 약 12.8% 수준으로 TSMC(10.2%), 인텔(7.8%), 마이크론(4.9%) 등에 비해 높은 편이다. 투자의 성격과 보조금 지급 대상 투자금액의 규모에 따라 보조금 지급 비중이 달라진 것이라고 관련 업계는 해석하고 있다.
 

미국 상무부 지나 러몬도 장관은 성명에서 "삼성에 대한 이번 투자로 미국은 세계 5대 최첨단 반도체 제조업체가 모두 진출한 유일한 국가가 됐다"며 "이는 인공지능(AI)과 국가 안보에 필수적인 최첨단 반도체의 안정적인 국내 공급을 보장하는 동시에 수만 개의 양질의 일자리를 창출"할 것이라고 말했다.

이어 "삼성의 투자 규모와 범위는 1996년부터 칩을 제조해 온 미국에 대한 지속적인 헌신을 보여준다"면서 이번 투자로 향후 5년 내에 약 12,000개의 건설 일자리와 3,500개 이상의 제조 일자리를 창출할 것이라고 전망했다. 아울러 지역 상업 성장 또한 촉진하며, 주 내의 강력한 2년제 및 4년제 학술 기반을 활용하여 투자에 의해 창출된 중요한 역할을 수행할 숙련된 인력을 배출할 것이라고 덧붙였다.
 

지난 4월 PMT 서명 당시 삼성전자는 현재 미국 텍사스주 테일러시에 170억 달러를 투자해 건설 중인 반도체 공장의 규모와 투자 대상을 확대해 오는 2030년까지 총 400억 달러 이상을 투자할 계획이었다.

결국 4월 당시의 투자계획 대비 삼성의 시설투자 규모는 7.5%(30억 달러) 줄어 들었고, 미국 정부의 보조금 액수는 그보다 큰 폭으로 하락(예비각서 대비)했다. 

앞서 미국 상무부는 전날 반도체법에 따라 SK하이닉스에 최대 4억5천800만 달러(약 6천600억원)의 직접 보조금을 지급한다고 발표했다.